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ポスターセッション発表概要
65 nm FDSOIプロセスのしきい値によるフリップフロップのソフトエラー耐性の実測と評価
○榎原 光則,山田 晃大,小島 健太郎,古田 潤,小林 和淑(京都工芸繊維大学)
集積回路が微細化と共に製品の高性能化が進み、用途の異なるトランジスタの性能が要求されている。また、ソフトエラーによる信頼性の低下が問題視されている。
ソフトエラーとは一過性のエラーであり再起動することで回復可能であるが、人命に関わる機器では深刻な問題となっている。
近年、IoT社会においてリーク電流が問題視されている。
本研究では、65 nm FDSOIプロセスの低しきい値低消費電力
(LP)トランジスタと高しきい値低スタンバイ電力 (LSTP)トランジスタのチップでソフトエラー耐性の比較を行った。その結果、LPに比べ、LSTPのチップのほうがソフトエラー耐性が約2倍高いことが判明した。
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