電子情報通信学会ソサイエティ大会講演要旨
C-6-2
スパッタリング法を用いて作製したZnO/Ag/ZnO透明導電膜の評価
◎内堀智樹・山本峻也・小辻澄人・三浦健太・野口克也・加田 渉・花泉 修(群馬大)
現在,ITOをはじめとする透明導電膜は,太陽電池や液晶ディスプレイ等,幅広く利用されている.ITOはInを主成分とした酸化物であるが,Inは希少かつ高価な金属であり,資源の供給の面で問題を抱えているため,代替材料としてZnOなどが検討されている.最近,ZnOを用いた導電膜として,AgをZnOで挟んだ三層膜(ZnO/Ag/ZnO)が注目されているが,今回我々は,スパッタリング法を用いてZnO/Ag/ZnO透明導電膜の作製を試み,更にその導電性を改善するため,ZnO成膜時の水素導入を検討したので報告する.