電子情報通信学会ソサイエティ大会講演要旨
A-8-25
電子部品検査のためのNMF次元削減による識別精度向上の検討
◎西村晃紀・柳部正樹・田中智裕・大井健太郎・長谷智紘・森山 健・前田俊二(広島工大)
精密な電子部品を製造する際,電子部品の欠陥の有無が自動判定されるが,検査の高感度化の要求に伴い,装置が欠陥候補としたものの中には良品も多く含まれ,過検出が起こりうる.そのため,目視等による再検査により,欠陥候補を欠陥と良品に分ける作業が行われている.製造工程の高効率化を実現するためには,再検査の自動化が望まれている.本研究は,画像の切出し位置の決定および比較する画像間での位置合せを,HOG(Histograms of Oriented Gradients)特徴量の類似度により行い, HOG特徴量のNMFを用いた次元削減による欠陥識別精度の向上に関して述べる.