電子情報通信学会総合大会講演要旨
C-6-4
ゾルゲル法によるTiO2薄膜の製作
◎榎並翔太・Idris Syahrin・姜 海松・浜本貴一(九大)
センシング用光導波路材料の基礎検討として、TiO2膜[1]をプラズマを使用せず膜に損傷が少なく成膜ができるゾルゲル法によりコア層として成膜させた光導波路の検討を行っている[2]。他のデバイスとの集積可能性からSi基板上にSiO2膜、およびTiO2膜の堆積を検討しているが、TiO2成膜条件は十分には確立されていない。特に乾燥工程において、膜厚内に熱膨張係数の違いに起因しクラックが生じてしまうという課題があり、本研究では乾燥条件を検討し、TiO2の薄膜を製作したので報告する。