電子情報通信学会総合大会講演要旨
C-3-21
シリコンフォトニクスDWDM合分波に向けた粗調レーザトリミングによるクロストーク抑制フィルタ
○地蔵堂 真・亀井 新・菊池清史・才田隆志(NTT)
シリコンフォトニクスは量産性に優れた光集積回路プラットフォームとして期待されており,光送受信デバイスを中心として実用化に向け研究開発が盛んに行われている.一方,シリコンフォトニクスでDWDM(Dense wavelength division multiplexing)波長合分波器を実現する上では,位相誤差によるクロストーク劣化が課題となる.最近,シリコンフォトニクスにレーザを照射して位相調整する技術が提案されているが,再現性に課題があり,高精度な位相制御は難しい.そこで本研究では,レーザ照射による粗い位相制御を用いて透過波長を高精度に調整可能なフィルタの構成を提案し,クロストーク抑制フィルタとしての原理確認実験の結果を報告する.