電子情報通信学会総合大会講演要旨
B-1-172
ミリ波帯マルチビームを用いたスポットセル形成技術に関する一検討
○新井麻希・山口 陽(NTT)・関 智弘(日大)
極小セルを高密度に配置し,通信エリア全体の通信路容量を改善するため,ロットマンレンズなどのアナログ給電回路を用いて多数の方向にビームを形成し,全てのビームで同時に伝送を行うマルチビーム伝送の定式化を行った.またエリア面積に応じた最適ビーム数の導出を行った.