電気学会全国大会講演要旨
1-051
微量のCF3Iガスを混合した大気圧N2/CF3Iガス中での電子挙動
◎堤 良太・大森智裕・松本宇生・生澤泰二・西嶋喜代人(福岡大学)
今日、優れた絶縁性能を持ち、ガス絶縁開閉装置(GIS)などの電力機器に用いられているSF6ガスに代わる代替ガスの研究が行われている。そこで、地球温暖化係数が1と非常に低く、大気寿命の短いCF3Iガスが注目されている。 本報告では、大気圧のN2ガスに微量のCF3Iガス(0〜0.1%)を加えたN2/CF3Iガス中にパルスYAGレーザを照射して弱電離プラズマを発生させ電子の挙動を表すスウォームパラメータ(電子の平均ドリフト速度、実効電離係数)を計測した。その結果、N2ガスに微量のCF3Iガスを混合した場合、電子の平均ドリフト速度はほとんど変化しなかったが、強い付着効果が確認され、その付着によって臨界換算電界E/Plimitが大幅に増加した。