電気学会全国大会講演要旨
2-101
近接昇華法によるAg(Ga,Al)Te2混晶の作製とバンドギャップの評価
◎薄井綾香・宇留野 彩・井上朋大・竹田裕二・小林正和(早稲田大学)
近年、光吸収が強く太陽電池応用に適しているカルコパイライト系I-III-VI2族化合物半導体が注目されている。カルコパイライト系材料は混晶化することによりバンドギャップの制御も可能となる。これまでのところ近接昇華法によって高品質で組成が保たれたAgGaTe2、AgAlTe2、CuGaTe2の作製に成功してきた。AgGaTe2の室温におけるバンドギャップは太陽電池に適しているとされている値より少し小さいため、バンドギャップの大きいAgAlTe2に注目し、AgGaTe2とAgAlTe2の混晶であるAg(Ga,Al)Te2を作製することでバンドギャップ制御が可能かを検討した。特に今回はAgGaTe2とAgAlTe2のパウダーを混合したものをソースとして用いることを検討した。本研究では、ソース中のAgGaTe2とAgAlTe2のパウダー混合比が薄膜のバンドギャップにどのような影響を与えるかについて検討した。