本研究室では，バルク焼結磁石にも匹敵する薄膜磁石をNdFeB/Taの多層膜をスパッタリングによって成膜し，微細加工されたシリコン構造体に埋め込み，研磨する技術を確立することで，一般的に困難とされている磁性体の微細加工を実現している．その応用例としてMEMS電磁型エナジーハーベスタの作製に成功している。今回，薄膜磁石の磁極に着目し，磁極を交互に配列した薄膜磁石の設計，試作を行った。単一方向に磁極を配置した薄膜磁石と比較し，交互配列によって約2.8倍の磁束密度の変化量を得ることが可能になり，エナジーハーベスタの出力向上の可能性を示した。