電気学会全国大会講演要旨
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マイクロ波流れプラズマによるポリイミドの親水化処理
◎鈴木脩一・小野 茂・新井智彦(東京都市大学)
プラズマによる高分子材料の親水化処理は,使用するプラズマの分析に関するデータが不十分であり,特に活性ラジカルの影響を定量的に考察した報告は非常に少ない。そこで,我々は白金線触媒プローブ法を用いて酸素ラジカルの定量測定を行い,親水化処理の結果と併せて考察することで酸素ラジカルのふるまいについて調査を行った。実験内容は,酸素ラジカルの分布領域を圧力の可変によって制御し,酸素ラジカルの存在下で処理を行ったポリイミド表面の水接触角を観測した。実験の結果,酸素ラジカルが観測される領域ではいずれも非常に良好な特性が得られ,酸素ラジカルが親水化処理に主体的な役割を持つ事を示した。