電気学会全国大会講演要旨
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水素化炭素膜堆積後の希ガスプラズマによる水素脱離実験
◎野谷昌弘・飯田和也・佐々木 彩・上杉喜彦・田中康規・石島達夫(金沢大学)
これまで炭素材対向壁への水素プラズマ照射による炭化水素不純物発生を模擬するために水素/メタンプラズマを生成している。この実験において水素/メタンプラズマに少量の窒素を添加することで炭素膜堆積が抑制されることが確認されている。今までの実験では炭素膜堆積抑制が水素吸蔵をどの程度抑制するのか不明であった。そこで,今回の実験ではHeliotron-DRの内壁全体を使った水素吸蔵量のその場解析の初期実験として膜堆積後の水素脱離実験を行い、脱離の目安として分圧をQMSにより測定した。 実験結果から窒素添加した場合の方がヘリウム放電時に生じる水素の分圧が減少することがわかる。よって膜中への水素吸蔵が減少していると考えられる。