電気学会全国大会講演要旨
1-196
マイクロ波励起水中気泡プラズマによるレジスト膜除去プロセス
◎野阪幸平・石島達夫・田中康規・上杉喜彦（金沢大学）・堀邊英夫・後藤洋介（金沢工業大学）
半導体製造工程におけるレジスト膜除去において、イオン注入されたレジストは変性し除去が困難となる。本報告では液中プラズマ技術を用いて除去が困難なイオン注入レジストの処理を行った。