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中性子変換ドーピングに向けた同軸二重円筒装置のパルス動作による大電流化
◎南條一樹・今治宏紀・野辺啓太・Ngamdee Wantapon・渡邊正人・堀田栄喜(東京工業大学)
中性子変換ドーピング(NTD)はSiインゴットに中性子を照射し,一様なリン分布をもつ半導体を製造することができる.NTDを実現できる小型の装置として,同軸二重円筒型慣性静電閉じ込め核融合(CDC-IEC)装置を提案する.CDC-IECの中性子生成率(NPR)は装置に流れる電流の1乗に比例する.しかし直流動作による大電流化は,装置本体の温度が上昇しNPRの増加が鈍る恐れがある.よってCDC-IECをパルス駆動し,中性子生成率の向上を図った.ここではパルス波形入力による放電特性を報告する.ピーク電流を一定とし,重水素ガス圧力を変化させた時のパルス電圧・電流波形を測定した.ガス圧力が低くなるほどパルス電圧が高くなり,パルス電流の遅れ時間が長くなった.今後はNPRの測定を行う予定である.