高強度パルスイオンビーム(Intense Pulsed Ion Beam : IPIB)は、パルス電力技術を用いて生成される大電流( >1 kA) 、短パルス(≈100 ns)のイオンビームであり固体表面をパルス的に加熱できることから、材料の表面処理、薄膜生成、イオン注入などの応用が期待されている。しかし、従来のパルスイオンビーム技術では、イオンビームに不純物が多く含まれていて、イオンビームの純度が低いことや、発生イオン種の制限などの問題があった。そこで、IPIBの純度を加速段階において向上可能な多段式静電加速器である両極性パルス加速器を開発してきた。本発表では、初段加速におけるイオンビームの評価を行ったので、その結果を報告する。