光照射により有害物質を分解できる光触媒の一番の課題は、可視光応答性も含めた高活性化である。光触媒表面にプラズマ処理をすると酸素欠損ができ性能が大きく向上するが、「経日劣化がある」「最適な処理条件が確立されていない」という問題点も抱えている。本研究の狙いは酸素欠損型光触媒の性能の経日変化の調査である。結果として酸素欠損型光触媒性能は、可視光領域では初期に経日劣化はあるが、一定の値で止まり安定化することが分かった。このときの可視光領域での触媒性能の値は、同一照度の紫外光照射時の値のおよそ3分の1であった。これは一般的に性能が認められているNドープ型光触媒に比べると画期的に良い性能である。