X点プラズマには上下2つのコイルにより形成される対向発散磁界が印加されており、容器中心に零磁界のX点が生じるとともに、容器中心を通る水平面が分界面となってプラズマが上下2領域に分かれる。 X点プラズマの特徴を用いたプロセス応用の可能性を検討するために、RF電界・対向発散磁界下の単電子運動と電子数密度分布を解析した。 単電子運動の解析では典型的なサイクロトロン運動とともに、電子衝突による上部領域から下部領域への拡散が観察された。電子数密度分布は上部のRFアンテナ付近が高くなり、分界線を境に電子数密度が急減する様子が観察された。